連絡電話:+86-0379-60853300
会社ファックス:+86-0379-64152661
郵便番号:471000
電子メール:info@yuxindiamond.com
アドレス:洛陽市澗西区蓬莱道に号洛陽国家大学サイエンスパーク3 - 1棟508室
CVD(Chemical Vapor Deposition )工業合成ダイヤモンドは化学気相堆積法によって成膜される物である。ダイヤモンドの室温の熱伝導率は最高22W/(cm·K)に達し、銅の熱伝導率の5倍で、窒化アルミニウム熱伝導率の6倍で、ベリリア熱伝導率の7倍余であり、電子部品の熱を伝導することができる。だが、ダイヤモンドの電気抵抗率は1016Ωに達し、典型的な絶縁体である。そのため、ダイヤモンドは最も理想的な熱堆積材料である。
主に高パワーのダイオードの陳列、高パワーの発光ダイオード(LED)、無線周波パワーのトランジスタ、ハイパワー、高週波数電子(光電)部品、多チップモジュール大規模集積回路のフィン、半導体ラインパッケージなどに用いる。CVDダイヤモンドフィン でレーザー設備集積チップの冷却能力を30%~100%高める。
性能パラメーター | |
ビッカース硬度 | 8000kg/mm2-1000kg/mm2 |
密度 | 3.52cm³ |
ヤング率 | 850GPa |
熱伝導率 | 1200W/mk--2000W/mk |
化学安定性 | すべての酸とアルカリに溶ない |
破壊強度 | 350Mpa |
熱膨張係数 | 1.0+/-0.1ppm/K(300K) 4.4+/-0.1ppm/K(1000K) |
ポアソン比 | 0.1 |
平行度 | <4<µ/cm |
厚さ公差 | +/-50µm |
成長面粗さ | <100nm Ra |
核成形面粗さ | <30nm Ra |
標準厚さ | 300µm |
提供可能のサイズ:
膜厚:0.3-1.5mm
仕上げ後厚さ:0.2-1.0mm
特殊サイズはお客様の要求により加工可能。
主要の放熱材料及び性能 | ||||
材料 | 電気学性能 | 熱伝導率/【W/(m.K)】 | 熱膨張係数/(10-6K-1) | 密度 /(g/cm3) |
ダイヤモンド | 絶縁体 | 2000 | 0.8-1.0 | 3.52 |
Al | 導体 | 247 | 23 | 2.7 |
SiC/Al | 導体 | 170-220 | 6.2-7.3 | 3.0 |
B/Al | 導体 | 145 | 13-15 | 2.7 |
ダイヤモンド/Al | 導体 | 375-670 | 5.07-12.5 | <3.5 |
Cu | 導体 | 398 | 17 | 8.9 |
Cu/Mo | 導体 | 170-210 | 5.7-6.0 | 9.4-10.01 |
Cu/W | 導体 | 150-205 | 6.5-8.3 | 15.7-17.6 |
グラシール/Cu | 導体 | 400 | 2.8-3.5 | 5.3 |
ダイヤモンド/Cu | 導体 | 400-600 | 6.0-6.5 | 5.0-5.5 |
Au | 導体 | 315 | 14 | 19.32 |
Mo | 導体 | 142 | 4.9 | 10.22 |
W | 導体 | 155 | 4.5 | 19.3 |
BeO | 絶縁体 | 260 | 6 | 3 |
AlN | 絶縁体 | 320 | 4.5 | 3.3 |
SiC | 絶縁体 | 270 | 3.7 | 3.3 |