一、合成钻石

合成钻石即实验室合成钻石或人工合成钻石，是实验室合成的人工产品，具有与天然钻石一样的化学成分及晶体结构，相同的化学与物理性质。早在18世纪人们就开始了合成钻石的探索，直到20世纪，由于热力学和高温高压技术的发展，才使钻石的合成得以实现。到20世纪九十年代，采用化学气相沉积法（Chemical Vapor Deposition, CVD）合成钻石薄膜，获得工业用途的多晶金刚石薄膜。2003年，美国阿波罗公司合成出达到宝石级单晶，并开始商业性生产。2017年德国奥格斯堡大学历经26年，通过化学气相沉积法合成出155克拉的CVD单晶钻石。

二、合成钻石的主要制备方法

目前主要有两种合成钻石制备技术：

1.高温高压法（High Temperature High Pressure, HTHP）

    早期的合成钻石方法，温度和压力是制备晶体的两项关键因素。HTHP合成钻石是指利用高温（500℃以上）超高压（1.0X10Pa以上）设备，使合成宝石原料在高温高压条件下并含有金属催化剂的压力机中，以变质成矿作用方式产生相变或熔融进而结晶生长宝石的方法。因为含有金属催化剂的参与，钻石内部常常会有金属包裹体。

2.化学气相沉积法（Chemical Vapor Deposition, CVD）

生长单晶钻石的CVD化学气相沉积法，***常用的方法是微波等离子体法。高温（大致800到1200℃）低压（大致0.1大气压）条件下的合成方法。用泵将含碳气体——甲烷（CH4）和氢气通过一个管子输送到抽真空的反应舱内，靠微波将气体加热，同时也将舱内的一个基片加热。微波产生等离子体，碳以气体化合物的状态分解成单独游离的碳原子状态，经过扩散和对流，***后以钻石形式沉积在加热的基片上。

我们的产品——CVD人工合成钻石

 随着CVD合成技术的提高，通过采用气体原料（氢气、甲烷）在低于1个气压，800-1200℃的温度下采用外延生长的方式获得完全透明无色大尺寸金刚石单晶，其成分、硬度、密度等与天然钻石基本一致，而价格远远低于天然钻石；与高温高压法（HTHP）不同，CVD人工成合技术不需要使用催化剂，杜绝了生产中形成的金属夹杂、裂隙、孔洞等。

特点：打磨后的净度一般为VVS及以上级别，色度为D-J色。

可提供克拉级的钻石原胚。

四、CVD人工合成钻石的明显优势

1．可在各种材料的基座上沉淀，无需钻石籽晶；

2．成本低；

3．尺寸大；

4．净度易控制，净度高；

5．生长时间短；

6．不含任何金属粘合剂；

7．易于切割加工；